欧美黑人又大又粗xxxxx,中文精品久久久久国产,50岁熟妇大白屁股真爽,成人免费毛片内射美女-百度

新聞

新聞

News

微納加工中EMI濺射鍍膜的特點(diǎn)

點(diǎn)擊量：920 日期：2023-02-21 編輯：硅時(shí)代

微納加工中的EMI：是電磁波會(huì )與電子元件作用，產(chǎn)生干擾現象。它有以下幾個(gè)特點(diǎn)：
A、如果國內擁有自主知識產(chǎn)權的話(huà)，價(jià)格相比較更低。
B、更加環(huán)保，真空濺射屬于環(huán)保制程，可以做到無(wú)污染。
C、雖然真空濺射加工的金屬薄膜厚度只有0.5～2μm，但不會(huì )影響裝配。
D、在材料選擇上沒(méi)有限制，在常見(jiàn)的常溫固態(tài)導電金屬及有機材料、絕緣材料皆可使用。
E、EMI膜質(zhì)致密均勻、膜厚容易控制。
F、被濺射基材幾無(wú)限制。
G、它的附著(zhù)力強（可用ASTM3599的方法測試4B）。
H、可同時(shí)搭配多種不同濺射材料之多層膜，且可隨客戶(hù)指定變換鍍層次序。
  • 聯(lián)系我們
  • 聯(lián)系電話(huà)：0512-62996316
  • 傳真地址：0512-62996316
  • 郵箱地址：sales@si-era.com
  • 公司地址：中國（江蘇）自由貿易試驗區蘇州片區——蘇州工業(yè)園區金雞湖大道99號納米城西北區09棟402室
  • 關(guān)注與分析
蘇州硅時(shí)代電子科技有限公司 版權所有 Copyright 2020 備案號：蘇ICP備20007361號-1 微特云辦公系統 微納制造 MEMS設計
一鍵撥號 一鍵導航