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直寫(xiě)光刻在掩膜版制造過(guò)程中的應用
點(diǎn)擊量：733 日期：2023-08-14 編輯：硅時(shí)代
掩膜版的生產(chǎn)主要包括以下幾個(gè)流程：圖形光刻，顯影，蝕刻，脫膜，清洗。其中，圖形光刻是通過(guò)光刻機進(jìn)行激光光束直寫(xiě)，以完成圖形曝光，掩膜版制造都是采用正性光刻膠，通過(guò)激光作用使需要曝光區域的光刻膠內部發(fā)生交聯(lián)反應。
在光刻過(guò)程中，曝光機的核心是曝光光源，光源通常使用紫外線(xiàn)燈管，其波長(cháng)一般在350nm~400nm之間。曝光機使用的紫外線(xiàn)燈管能夠產(chǎn)生高強度的紫外線(xiàn)輻射，并具有均勻的光強度分布，以便在整個(gè)掩膜版上形成一致的曝光強度。
掩膜是制造出掩膜圖形的關(guān)鍵，掩膜通常是由透明或半透明材料制成，上面印有需要制造的電路板圖形。曝光機使用的掩膜必須具有高精度和高對比度，以確保最終制造出來(lái)的電路板符合規格要求。
隨著(zhù)芯片制程工藝提升和成熟制程持續擴產(chǎn)，亞太地區的掩膜版供需缺口在增大，預計低規格掩膜版的交貨時(shí)間將翻倍。掩膜版的供不應求，推動(dòng)產(chǎn)業(yè)擴產(chǎn)，在這種情況下，直寫(xiě)光刻曝光機作為掩膜版生產(chǎn)過(guò)程中不可或缺的設備，需求量也會(huì )隨之增加。
以中國大陸掩膜版生產(chǎn)為例，相關(guān)企業(yè)，如清溢光電、路維科技的資金募集計劃中就包含掩膜版擴產(chǎn)項目，清溢光電的合肥清溢光電有限公司8.5代及以下高精度掩膜版項目預計投資7.4億元人民幣，可以新增年產(chǎn)能1852個(gè)。路維科技的高精度半導體掩膜版與大尺寸平板顯示掩膜版擴產(chǎn)項目預計投資2.66億元，用于G11和AMOLED平板顯示掩膜版的生產(chǎn)。
2021年，清溢光電、路維光電的資本支出分別為3.05億元、1.35億元，清溢光電招股說(shuō)明書(shū)顯示，該公司設備采購支出約占總投資的70%，光刻機約占設備投資的89%。
