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2023-07-31
濺射沉積率是表征成膜速度的參數，其沉積率高低除了與工作氣體的種類(lèi)與壓力、靶材種類(lèi)與“濺射刻蝕區“的面積大小、靶面溫度與靶面磁場(chǎng)強度、靶源與基...
2023-07-28
當我們使用電子束光刻做pattern時(shí)，有時(shí)候會(huì )發(fā)現在一些特殊情況下，無(wú)法獲得完美的圖形（圖形變形、斷線(xiàn)等），這種情況極有可能是因為電子束光刻的充電...
2023-07-26
我們知道，在微納米技術(shù)的發(fā)展中MEMS一直是一個(gè)重要的應用方向，MEMS技術(shù)在尺度上的特點(diǎn)是橫跨1um到1mm尺度且結構復雜，除了常規我們使用的...
2023-07-26
PECVD（Plasma Enhanced Chemical Vaper Deposition）是等離子增強化學(xué)氣相淀積，該技術(shù)是在低氣壓下，利用低溫等離子體在工藝腔體的陰極...
2023-07-25
MOCVD全稱(chēng)是Metal-Organic Chemical Vapour Deposition（金屬有機化合物化學(xué)氣相沉積設備），是在氣相外延（VPE）的基礎上發(fā)展起來(lái)的一...
2023-07-25
MEMS傳感器種類(lèi)繁多，主要的MEMS傳感器包括運動(dòng)傳感器、壓力、麥克風(fēng)、環(huán)境、光傳感器等。其中運動(dòng)傳感器可分為陀螺儀、加速度計、磁力計，&...
